（1）SPV100真空等離子清洗機(jī)產(chǎn)品簡(jiǎn)述

　　（1.1）離子清洗機(jī)清洗系統(tǒng)主要是：

　　（A）對(duì)材料表面的刻蝕作用--物理作用等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清除了表面原有的污染物和雜質(zhì)，而且會(huì)產(chǎn)生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細(xì)坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤(rùn)濕性能。

　　（B）激活鍵能，交聯(lián)作用SPV100真空等離子清洗機(jī)等離子體中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV，因此等離子體作用到固體表面后，可以將固體表面的原有的化學(xué)鍵產(chǎn)生斷裂，等離子體中的自由基與這些鍵形成網(wǎng)狀的交聯(lián)結(jié)構(gòu)，大大地激活了表面活性。

　　（C）形成新的官能團(tuán)--化學(xué)作用如果放電氣體中引入反應(yīng)性氣體，那么在活化的材料表面會(huì)發(fā)生復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，引入新的官能團(tuán)，如烴基、氨基、羧基等，這些官能團(tuán)都是活性基團(tuán)，能明顯提高材料表面活性。

     （1.2）離子清洗機(jī)清洗系統(tǒng)等離子清洗作為重要的材料表面改性方法，已經(jīng)在眾多領(lǐng)域廣泛使用。與傳統(tǒng)的一些清洗方法，如超聲波清洗、UV清洗等，以下優(yōu)點(diǎn)：

　　（A）處理溫度低處理溫度可以低至80℃、50℃以下，低的處理溫度可以確保對(duì)樣品表面不造成熱影響。

　　（B）處理全程無(wú)污染等離子清洗機(jī)本身是很環(huán)保的設(shè)備，不產(chǎn)生任何污染，處理過(guò)程也不產(chǎn)生任何污染。

　　（C）處理效果穩(wěn)定等離子清洗的處理效果非常均勻穩(wěn)定，常規(guī)樣品處理后較長(zhǎng)時(shí)間內(nèi)保持效果良好。

　　（D）可以處理各種形狀的樣品對(duì)于復(fù)雜形狀的樣品，等離子清洗都能找到合適的解決方案。真空等離子清洗更可實(shí)現(xiàn)對(duì)固體樣品內(nèi)部位置進(jìn)行清洗。

（1.2）產(chǎn)品原理等離子清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)主要分為四大部分組成：控制系統(tǒng)、激勵(lì)電源系統(tǒng)、真空腔體、工藝氣體系統(tǒng)、以及真空泵系統(tǒng)。

（A）控制系統(tǒng)：

　　控制系統(tǒng)的功能在于控制整個(gè)設(shè)備的運(yùn)行，包括人機(jī)界面（觸摸屏）、PLC、電氣電路。采用全自動(dòng)控制系統(tǒng)的真空等離子清洗，可實(shí)現(xiàn)多種模式多種程序?qū)η逑丛O(shè)備進(jìn)行控制，滿(mǎn)足不同客戶(hù)的需求。

　　（B）激勵(lì)電源系統(tǒng)：激勵(lì)電源主要有三類(lèi)：40KHz的中頻激勵(lì)電源，13.56MHz的射頻激勵(lì)電源，2.45GHz的微波激勵(lì)電源。目前業(yè)界主要采用的是射頻激勵(lì)電源和中頻激勵(lì)電源。各自應(yīng)用場(chǎng)合不同。

　　（C）真空腔體：真空腔體主要是分為三種材質(zhì)的：1）鋁合金腔體，2）不銹鋼真空腔體，3）石英腔體。根據(jù)用戶(hù)的不同需求，可實(shí)現(xiàn)不同的放電模式和適用不同的樣品尺寸和產(chǎn)能。

　　（D）工藝氣體系統(tǒng)：SPV100真空等離子清洗機(jī)

　　工藝氣體包括流量計(jì)、氣壓閥等，用戶(hù)可靈活選擇多路的工藝氣體方案，氬氣、氧氣、氫氣、氮?dú)狻⑺姆嫉龋蓾M(mǎn)足不同工藝方案要求。清洗各種產(chǎn)品表面。

　　（E）真空泵：真空泵分為油泵、干泵、羅茨泵，油泵主要采用雙級(jí)旋片泵，根據(jù)用戶(hù)所采用的腔體體積、工作效率、環(huán)境要求來(lái)制定真空泵的方案。

（2.1）技術(shù)參數(shù)

（2.2）尺寸參數(shù)




       （3）性能優(yōu)勢(shì)

　　（3.1）*電源：采用*高壓激勵(lì)電源電路技術(shù)，產(chǎn)生高密度等離子體，確保出眾的清洗效果。

　　（3.2）全面安全防護(hù)：溫度安全防護(hù)功能，過(guò)載防護(hù)功能，短路斷路報(bào)警防護(hù)功能，各種誤操作保護(hù)功能。

　　（3.3）*放電技術(shù)：特殊處理及特殊結(jié)構(gòu)的放電裝置，確保形成穩(wěn)定均勻的等離子體。

　　（3.4）密封性的真空腔體設(shè)計(jì)：高級(jí)的高真空度真空腔體設(shè)計(jì)及制造工藝，配置進(jìn)口真空泵。

　　（3.5）優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品部件：產(chǎn)品全部部件采用國(guó)內(nèi)外優(yōu)質(zhì)部件，確保設(shè)備性能*

　　（3.6）超低清洗溫度：滿(mǎn)足不同場(chǎng)合溫度要求，不對(duì)清洗產(chǎn)品造成溫度影響。

　　（3.7）精密數(shù)控加工：進(jìn)口精密CNC數(shù)控機(jī)床加工工藝，并配備進(jìn)口三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x進(jìn)行質(zhì)量監(jiān)控。

　　（3.8）適用形狀復(fù)雜樣品：清洗各種復(fù)雜形狀的產(chǎn)品，包括內(nèi)孔內(nèi)壁，*均勻清洗

　　（4）案例及定制